publicações selecionadas artigo de revista A new OMCVD iridium precursor for thin film deposition. Chemical Vapor Deposition. 2001 artigo de conferência Tetracarbonyl bis(m-(2-methyl-2-propane-thiolato))diiridium): a new CVD iridium precursor for thin film deposition on carbon 2001 [Ir(m-SC(CH3)3)(CO)2]2: um novo precursor de irídio para a produção de filmes por OMCVD sobre substratos de grafite 2000
