A new OMCVD iridium precursor for thin film deposition

• http://hdl.handle.net/10198/1360
• http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-0003072387&partnerID=MN8TOARS

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Visão geral

autores

• Gomes, H.
• Philippe Serp
• Feurer, R.
• Faria, J. L.

data de publicação

• janeiro 1, 2001

publicada em

• Chemical Vapor Deposition  Revista

Identidade

Digital Object Identifier (DOI)

• https://doi.org/10.1002/1521-3862(200103)7:2<59::aid-cvde59>3.0.co;2-s

Informação adicional documento

Página Inicial

• 59

página final

• 62

Volume

• 7

questão

• 2